http://www.bpbop.cn

两台国产光刻机诞生,被用于各领域研究,会成

今天跟大家聊一聊:国产光刻机的出路在哪里呢?目前中国已经投资了3387亿元作为专项研发经费,随着中企的两台国产光刻机的诞生,是否能够改变中国半导体领域的劣势呢?

在半导体领域中国一直处于落后状态,经过几十年的努力,成效也不是很好。好在台积电目前已经成为了全球最大的芯片代工厂,目前国内市场生产需求也都能够满足,而类似苹果、华为等等这样的大企业研发出芯片之后,都需要台积电的工艺完成生产成型,而台积电的技术过分依赖美国,所以由于种种原因,华为最终把代工需求慢慢转向了国内的工厂。

根据相关消息称,交由台积电生产的5纳米芯片订单被华为取消了,与此同时也面临了一个困境,目前只有台积电和三星拥有5纳米的加工工艺,虽然目前中芯国际已经有能力,帮助华为生产14纳米的芯片,但是对于5纳米的工艺显然还是相去甚远,从自主设计国产芯片到实现生产国产芯片,华为目前已经做得很好了,而要想实现更为高端的芯片生产,其所需要的关键设备就是光刻机。

中芯国际自2000年成立以来,经过二十多年的努力,目前也能够掌握14纳米工艺的批量生产了,也成为了国内最大的芯片代工企业,也成为了中国半导体领域能够突破的一个关键因素,目前中芯国际也在抓紧研发7纳米的生产工艺,而其中光刻机就是其中的关键,为了解决这一个问题,花8.4亿的天价向荷兰ASML公司购买一台极紫外光刻机。

最终的结果也在意料之中,两年前购买的光刻机,至今还是没有收到交付的讯息。加上美国的从中作梗,交付日期更是遥遥无期。

紫外光对于芯片加工起着至关重要的作用,而光刻机的激光器发出的不同紫外光波长,对于芯片的精度起着决定性的作用,目前国内外代工厂最常用的就是DUV深紫外光刻机,它的波长就是从436纳米逐渐缩小至193纳米的,看似完美的存在,但是也有着一个重大的缺陷,它最多只能生产7纳米工艺的芯片,更为高端的需求就满足不了。

为了满足科技的发展,荷兰的ASML公司经过多年的研发,改变了原有的光源,最终将极紫外光的EUV光刻机的精度提升到了13.5纳米,凭借着此项技术垄断了全球的市场。

在前一段时间中芯国际收到了,一架来自ASML公司的光刻机,很多人都以为就是此前花8.4亿购买的EUV光刻机,其实这就是一台DUV深紫外光刻机,这也大大拖垮中芯国际在7纳米工艺的生产研发进度。要知道要实现7纳米工艺的生产,就必须要用到这样一台光刻机。

目前中国也在加大投资力度,研发自己的国产光刻机,随后也迎来了好消息,由中国安芯半导体公司研发的两台光刻机,目前已经完成整机出库,虽然精度不高但是国产率达到了70%,这对于我们来说无疑是一个振奋人心的好消息。

而其中一台被国内企业海康威视,用来生产制造作耳温枪的生产制造,另外一台被用作半导体领域中互补金属氧化物的研究,虽然此次生产制造的国产光刻机工艺被定格在了90纳米左右,但是好消息就是在22纳米的工艺上,中科院已经有所突破,对于这样高精密领域,发达国家也都是经过上百年的沉淀的,我们也不能急于一时,要慢慢的积累,有了3887亿的专项研发基金,中国在半导体领域势将大有所为,让我们拭目以待吧。

上一篇:日本媒体再次点评华为!芯片硬件已具备“对抗
下一篇:一则“纪要”引发的股市血案!半导体板块暴跌